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產(chǎn)品型號：TC-HCH-2000E、F廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2019-07-08訪 問 量：1391
產(chǎn)品分類
CLASSIFICATION
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聲波脈沖反射法測厚儀TC-HCH-2000E、F
聲波測厚儀是采用聲波脈沖反射法的原理來方便快捷的測量材料與物體的厚度，示值穩(wěn)定，攜帶方便，實現(xiàn)zui基本的檢測功能，為您帶來經(jīng)濟實用的選擇。
■ 產(chǎn)品特性：
◆ 盡在掌握： 2000系列測厚儀滿足您聲波測量的一切所需。它使用簡便、體積小巧和結(jié)構(gòu)牢固的，只有幾個按鍵，專為單手操作而設(shè)計。HCH-2000系列測厚儀能幫助您完成大量的測厚任務(wù)，是您厚度測量任務(wù)的 解決方案。
聲波脈沖反射法測厚儀TC-HCH-2000E、F◆ 輕松讀取：高對比度液晶顯示，*的自動背光功能，當(dāng)光線暗時，背景光會自動打開。既節(jié)省電力又可使您在任何情況下輕松讀取數(shù)據(jù)。
◆ 適用于各種應(yīng)用場合：我們?yōu)槟峁V泛的探頭選擇保證儀器適用于各種應(yīng)用場合。無論是小口徑管材或者是高溫度構(gòu)件還是粗糙的鑄鐵材料，我們通過眾多的可選探頭滿足您大量各式各樣的測量要求。
◆ 探頭校準(zhǔn)：開機連接探頭，取適量耦合劑涂到儀器試塊上，將探頭與試塊良好接觸測得一厚度值，按動“ 校準(zhǔn)”鍵，液晶顯示 “4.0 ”, 校準(zhǔn)完畢,儀器自動記憶。
◆ 聲速調(diào)節(jié)：我們?yōu)槟峁V泛的聲速調(diào)節(jié)按動“▲”“ ▼ ”鍵即可進入聲速調(diào)整狀態(tài)。按動“ ▲ ”鍵，聲速以10為單位增加；按動“▼”鍵，聲速以10為單位減少，按住兩鍵其中一鍵不動，聲速快速遞增或遞減，調(diào)整到認可聲速,儀器自動記憶，此時，直接測量即可返回到測量狀態(tài)。注意：無論聲速為何值，按動“ 設(shè)定”鍵聲速自動回到45＃鋼聲速，聲速為5900m/s。
◆ 不同材料測量：我們?yōu)槟峁┝硕喾N常用材料的參考聲速，只需調(diào)節(jié)相應(yīng)材料的聲速即可測出該材料的實際厚度。
■ 應(yīng)用領(lǐng)域： 2000系列是一個使用簡單的精密厚度測量工具，適用于汽車、航空和航天工業(yè)中的零部件，易損耗工件的多種測試任務(wù)：
◆ 鑄造和沖壓金屬元件，比如鋁、鋼、銅、青銅制成的元件 ◆ 機加工工件
◆ 化學(xué)蝕刻元件 ◆ 金屬條、金屬板 ◆ 玻璃、塑料和復(fù)合材料
◆ 管線、壓力容器、氣瓶、存儲罐、化學(xué)處理用容器 ◆ 材料處理系統(tǒng)、泵
◆ 橋梁、船體、起重機、造船設(shè)備和鋼結(jié)構(gòu)工程
■ 技術(shù)參數(shù)表
產(chǎn)品型號EF
測量范圍0.7～500mm（45#鋼）0.65～500mm（45#鋼）
顯示精度0.1mm0.01mm
誤 差1%厚度值±0.1mm1%厚度值±0.05mm
待測材料的溫度-20℃～550℃（取決于探頭）
探頭頻率5MHz（可選配其它探頭）
數(shù)據(jù)處理可存儲254個測量數(shù)據(jù)、可連接打印機及微機
電 源二節(jié)5號電池
耦合指示被測件與探頭耦合良好時，顯示“▲”
顯 示 屏黑白液晶顯示，100ⅹ100，自動背光
顯示信息耦合指示、測量速率
外形尺寸175×70×25mm
重 量220克
使用環(huán)境溫度-10～+60 ℃、相對濕度 < 90%
低電壓指示紅燈亮
聲波測厚儀 聲波脈沖反射法測厚儀
 | 產(chǎn)品名稱：單參數(shù)智能水質(zhì)測定儀/水質(zhì)檢測儀/水質(zhì)分析儀/總堿度檢測儀/水中總堿度分析儀 產(chǎn)品型號：SZ/CM-04-35 |
單參數(shù)智能水質(zhì)測定儀/水質(zhì)檢測儀/水質(zhì)分析儀/總堿度檢測儀/水中總堿度分析儀 型號：SZ/CM-04-35
推出SZ/CM-04-35型手持單參數(shù)智能系列水質(zhì)分析儀，采用數(shù)字處理器，實現(xiàn)one-touch技術(shù)，一鍵完成測定操作，并且有自動校準(zhǔn)功能，使用級簡單、方便。內(nèi)置充電電池保證長達300小時的使用，同時，優(yōu)化了結(jié)構(gòu)設(shè)計，在充分方便使用的同時大大降低了成本，同時可與小型消解器配套使用。使該系列儀器成為各企事業(yè)單位的普及化水質(zhì)監(jiān)測儀表。該系列儀器可以測量多種指標(biāo)，具體指標(biāo)見下表：
儀器型號 | 測量項目 | 測量范圍 | 測量誤差 | zui低檢出限 | 測量方法 |
SZ/CM-04-01 | COD | 0-2500mg/L | ±8%或10 mg/L | 5 mg/L | 快速密閉催化消解法 |
SZ/CM-04-02 | NH3-N | 0.1-5.0mg/L | ±5%或0.05 mg/L | 0.02 mg/L | 納氏比色法 |
SZ/CM-04-03 | 總磷 | 0.05-2.0mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 鉬銻抗分光光度法 |
| SZ/CM-04-04 | 六價鉻 | 0-400μg/L | ±5%(FS) | 0.5 mg/L | 二苯碳酰二肼分光光度法 |
| SZ/CM-04-05 | 色度 | 0-500PCU | ±10% | 10PCU | 鉑鈷比色法 |
| SZ/CM-04-06 | 濁度 | 2.0-1000NTU | ±10% | 2NTU | 紅外散射 |
| SZ/CM-04-07 | 硫離子 | 0.05-0.35mg/L | ±8%(FS) | 0.02 mg/L | 對氨基二苯胺光度法 |
| SZ/CM-04-09 | 余氯/總氯 | 0.05-5.00 mg/L | ±5%或0.02 mg/L | 0.02 mg/L | N,N-二乙基-1，4-苯二胺光度法 |
| SZ/CM-04-10 | 磷酸鹽 | 0.02-2.50mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 鉬銻抗分光光度法 |
| SZ/CM-04-11 | 亞硝酸鹽 | 0.02-0.35mg/L | ±5%(FS) | 0.01 mg/L | N-(1-萘基)-乙二胺光度法 |
| SZ/CM-04-12 | 硝酸鹽 | 0.1-30.0 mg/L | ±8%(FS) | 0.05 mg/L | 鎘還原法 |
| SZ/CM-04-13 | 錳離子 | 0.05-5.00mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 高碘酸鉀氧化光度法 |
| SZ/CM-04-14 | 鎳離子 | 0.05-5.00mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 丁二酮肟光度法 |
| SZ/CM-04-15 | 銅離子 | 0.05-3.00mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 雙喹啉法 |
| SZ/CM-04-16 | 鐵離子 | 0.05-5.00mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | 鄰菲啰啉分光光度法 |
| SZ/CM-04-17 | 溴 | 0.05-8.00 mg/L | ±5%(FS) | 0.02 mg/L | DPD法 |
| SZ/CM-04-18 | 氯離子 | 0.1-20.0 mg/L | ±6%(FS)或0.2 mg/L | 0.1 mg/L | （Ⅱ）法 |
| SZ/CM-04-19 | 二氧化氯 | 0.05-2.00 mg/L | ±5%或0.1 mg/L | 0.05 mg/L | 氯酚紅法 |
| SZ/CM-04-20 | 總硬度 | 1.0-250 mg/L | ±5%或5 mg/L | 1 mg/L | EPA中的方法130.1 |
| SZ/CM-04-21 | 鈣鎂離子 | 0-400/150mg/L | ±8%或0.2 mg/L | 0.05 mg/L | DPD法 |
| SZ/CM-04-23 | 硫酸鹽 | 0-150mg/L | ±5%或1 mg/L | 1 mg/L | 濁度測量法 |
| SZ/CM-04-24 | 鉬離子 | 0.0-40.0mg/L | ±5%或0.1 mg/L | 0.1 mg/L |
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| SZ/CM-04-25 | 鉀離子 | 0.0-50.0mg/L | ±5%或0.5 mg/L | 0.1 mg/L | 四苯硼酸濁度法 |
| SZ/CM-04-26 | 銀離子 | 0.00-1.00mg/L | ±10%或0.002 mg/L | 0.001mg/L | PAN法 |
| SZ/CM-04-27 | 氟離子 | 0.00-2.00 mg/L | ±8%（讀數(shù)） | 0.02 mg/L | SPADNS方法 |
| SZ/CM-04-28 | 鋅離子 | 0.02-3.00 mg/L | ±5%或0.05 mg/L | 0.02 mg/L | Zincon法 |
| SZ/CM-04-29 | 碘離子 | 0.1-12.5 mg/L | ±5%或0.05 mg/ L | 0.1 mg/L | DPD法 |
| SZ/CM-04-30 | 聯(lián)氨離子 | 0-400μg/L | ±5%(FS) | 1μg | 對一二苯胺苯法 |
| SZ/CM-04-31 | 鋁離子 | 0.00-1.00 mg/L | ±8%(FS) | 0.01 mg/L | 試鋁靈法 |
| SZ/CM-04-32 | 二氧化硅 | 0.00-2.00mg/L | ±5%或0.05 mg/L | 0.02 mg/L | 雜多蘭法 |
| SZ/CM-04-33 | 總氮高 | 0.5-150.0 mg/L | ±8%（讀數(shù)） | 2,6-丁二酮肟光度法 | |
| SZ/CM-04-34 | 總氮低 | 0.0-25.0 mg/L | ±8%（讀數(shù)） | 2,6-丁二酮肟光度法 | |
| SZ/CM-04-35 | 總堿度 | 5-200 mg/L | ±5%（FS） |
測定儀技術(shù)指標(biāo) | 消解器技術(shù)指標(biāo) | ||||||||||||||||||||||
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圖像冠層分析儀 型號：GC02 一、功能 廣泛適用于農(nóng)業(yè)、園藝、林業(yè)領(lǐng)域有關(guān)栽培、育種、 植物群體對比與發(fā)展的研究與教學(xué)中農(nóng)作物、果樹、森林內(nèi)冠層受光狀況的測量和分析。能測算植物冠層的太陽直射光透過率、天空散射光透過率、冠層的消光系數(shù)，葉面積指數(shù)和葉片平均傾角等。 二、原理和方法 采用了冠層孔隙率與冠層結(jié)構(gòu)相關(guān)的原理。它是根據(jù)光線穿過介質(zhì)減弱的比爾定律，在對植物冠層定義了一系列假設(shè)前提的條件下，采用半理論半經(jīng)驗的公式，通過冠層孔隙率的測定，計算出冠層結(jié)構(gòu)參數(shù)。采用的是對冠層下天穹半球圖像分析測量冠層孔隙率的方法。 三、特點 1.非破壞性地測定冠層結(jié)構(gòu),自動水平調(diào)整探頭， 2. 圖像分析軟件可以任意定義圖像分析區(qū)域（天頂角可分10區(qū)，方位角可分10區(qū)）。對不同方向的冠層進行區(qū)域性分析時，可以任意屏蔽地物景像和不合理的冠層部分（如缺株、邊行問題等）。 四、技術(shù)參數(shù) 1.鏡頭角度：150° 2.分辨率：768×494pix 3.測量范圍：天頂角由0°～75°（150°魚眼鏡頭）可分割成十個區(qū)域，方位角360°亦可分割成十個區(qū)域。 4．PAR感應(yīng)范圍：感應(yīng)光譜400～700nm。 測量范圍0～2700μmol/m2•s 5.分析軟件：專業(yè)ECA-GC02軟件。 6.電 池：7.4V\5.6AH。 9.工作溫度：0～55℃ |
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